uv设备

光氧废气净化法原理： 　　光氧废气装置（一重破坏、分解，三重催化氧化） 破坏 　　采用高能C波段（仅次于切割不锈钢的激光，强于氩弧焊光源的数十倍强度）在设备内，强裂解恶臭物质分子链，改变物质结构，将高分子污染物质，裂解、氧化成为低分子无害物质，如水和二氧化碳等。 催化氧化 　　1、o3强催化氧化剂进行废气催化氧化，可有效地杀灭细菌，将有毒有害物质破坏且改变成为低分子无害物质。 　　2、催化剂涂层，在C波段激光刺激它产生活性，强化催化氧化作用。 　　3、在分解过程中产生高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。UV O2→O- O*（活性氧）O O2-O3（臭氧），众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它剌激性异味有极强的清除效果。O3也为强催化氧化剂进行废气催化氧化，裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭菌的目的。